Les lasers tout solide à ultraviolet profond (DUV, λ < 200 nm), essentiels à la recherche scientifique moderne et à la fabrication industrielle, sont largement utilisés dans des domaines allant de l'analyse des matériaux à la lithographie. Leur commercialisation dépend fortement de cristaux optiques non linéaires (NLO) hautes performances, mais le développement de tels cristaux est entravé par des exigences strictes : ils doivent simultanément posséder de grandes réponses de génération de seconde harmonique (SHG), une biréfringence modérée et de larges bandes interdites.
